Descripción de Producto
La aplicación de SF4:
Tetrafluoride de carbono es la mayor cantidad de plasma aguafuerte gas en la industria microelectrónica en la actualidad. Es una mezcla de gas de alta pureza y el oxígeno de alta pureza tetrafluoride de carbono. Puede ser ampliamente utilizado en el grabado de silicio, dióxido de silicio, el nitruro de silicio, fósforo cristal de silicio y tungsteno film de materiales.
Por el silicio y sistemas de dióxido de silicio, la selectividad de 45: 1 puede obtenerse mediante el ajuste de la relación entre los dos gases reactivos cuando se utiliza el grabado de iones de CF4-H2, que es muy útil para grabar la película de dióxido de silicio en la puerta de silicio policristalino.
También es ampliamente utilizado en limpieza de superficies de los dispositivos electrónicos, la producción de células solares, la tecnología láser, la fase de gas criogénico de aislamiento, la refrigeración, el agente de la prueba de fugas de cohete espacial, el control de actitud, y el detergente en la impresión de la producción de circuitos.
COA de CF4 Gas
| El tema | Index | ||
| CF4, %(V/V)≥ | 99.999 | 99, 995 | 99.99 |
| N2, 10-6(V/V) ≤ | 4 | 20 | 40 |
| O2, 10-6(V/V) ≤ | 1 | 5 | 10 |
| El CO2, 10-6(V/V) ≤ | 1 | 5 | 10 |
| CO, 10-6(V/V) ≤ | 0.3 | 0.5 | 1 |
| El SF6 10-6(V/V) ≤ | 1 | 1 | 5 |
| H2O, 10-6(V/V) ≤ | 1 | 5 | 10 |
| HF, 10-6(V/V) ≤ | 0.1 | 0.3 | 0.3 |
| Cft(CH2F2, CHF3, C2F3, C3F8), 10-6(V/V) ≤ | 1 | 10 | 30 |
| Total el contenido de impurezas, ppm (V/V) ≤ | 10 | 50 | 100 |
Especificación de CF4
| El parámetro Ensayo crítico | Unidad | Empresa La especificación | Análisis Los resultados | Método de análisis |
| Tetrafluoromethane (CF4). | %(V/V). | El 99, 999% Mín. | > El 99, 999% | G. C |
| El oxígeno (O2) | V. Ppm | < 1, 0 | < 0, 2 | G. C |
| El nitrógeno (N2) | V. Ppm | < 1, 0 | < 0.6 | G. C |
| El Monóxido de Carbono (CO) | V. Ppm | < 0, 5 | < 0, 2 | G. C |
| El dióxido de carbono(CO2) | V. Ppm | < 0, 5 | < 0, 2 | G. C |
| El hexafluoruro de azufre (SF6) | V. Ppm | < 0, 2 | < 0, 1 | G. C |
| Trifluoromethane(CHF3). | V. Ppm | < 0, 5 | < 0, 1 | G. C |
| Otros halocarbonos (OFC)*. | V. Ppm | < 1, 0 | < 0, 7 | G. C |
| El total de los hidrocarburos (THC)*. | V. Ppm | < 0, 5 | < 0, 1 | G. C |
| La humedad(H2O) | V. Ppm | < 0, 5 | < 0, 2 | El analizador de humedad |
| La acidez(como HF) | V. Ppm | < 0, 1 | < 0, 08 | El analizador de acidez |
| Contenido total de la impureza | V. Ppm | ≤10.0 | < 10.0 | G. C |
| Particale(> 0.1μm) | Pc/litro | < 10.0 | < 1, 0 | ICP-MS |
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